機(jī)器視覺

臺(tái)達(dá)DMV雙攝像機(jī)在激光切割定位中的應(yīng)用

ainet.cn   2014年02月19日

  引言:隨著客戶對(duì)切割精度要求的不斷提升,被切割材料的定位變的尤為重要。特別是如果被切割材料的長度超出1m后,產(chǎn)品本身的定位出現(xiàn)旋轉(zhuǎn)角度,則對(duì)于定位又是一道難題。根據(jù)目前感測(cè)技術(shù),只有采用視覺定位,才可滿足其定位精度要求。本文就介紹了臺(tái)達(dá)DMV雙攝像機(jī)在激光切割定位中的成功應(yīng)用。

 

  1 DMV雙攝像機(jī)檢測(cè)原理

  激光切割機(jī)是利用經(jīng)聚焦的高功率密度激光束照射工件,使被照射的材料迅速熔化、汽化、燒蝕或達(dá)到燃點(diǎn),同時(shí)借助與光束同軸的高速氣流吹除熔融物質(zhì),從而實(shí)現(xiàn)將工件割開。激光切割屬于熱切割方法之一??蛻裟壳暗男枰す馇懈畹陌宀某叽缂s為1m×1.2m,需要利用激光切割出如圖1的一個(gè)個(gè)小矩形,切割精度要求為0.05mm。由于被切割材料本體比較長,在上料的時(shí)候,往往很難保證其一致性,所以需要考慮采用視覺(又稱CCD)來檢測(cè)板材的傾斜角度以及偏移量。

  圖1 板材切割形狀

  由于材料本體尺寸比較大,如果將被測(cè)物完全拍攝到,則其檢測(cè)精度必然無法達(dá)到要求。所以考慮只拍攝該板材上的上下兩個(gè)MARK(標(biāo)記)的位置,獲知兩個(gè)MARK點(diǎn)的偏移量后可通過推導(dǎo)得出該板材的整體偏移量以及旋轉(zhuǎn)角度。

  為確保檢測(cè)精度,所以考慮采用一個(gè)相機(jī)各拍攝一個(gè)MARK的方法。本系統(tǒng)中采用2個(gè)相機(jī)和4個(gè)光源的架構(gòu)。

  圖2 相機(jī)拍攝MARK

  在材料無任何旋轉(zhuǎn)以及偏移的情況下,兩個(gè)MARK點(diǎn)的理論坐標(biāo)為X1,Y1與X2,Y2。在實(shí)際上料以后,相機(jī)拍攝后會(huì)獲取實(shí)際的坐標(biāo)X3,Y3和X4,Y4。由此就可得:

  ΔX1=X1-X3;ΔX2=X2-X4;ΔY1=Y1-Y3;ΔY2=Y2-Y2

  根據(jù)上位機(jī)軟件的計(jì)算,實(shí)際坐標(biāo)之間的連線與理論坐標(biāo)的連線就可獲知該板材的旋轉(zhuǎn)角度θ角。結(jié)合水平ΔX1,ΔX2以及垂直方向的ΔY1以及ΔY2,就可準(zhǔn)確獲知板材的整體偏移及旋轉(zhuǎn)角度。

  圖3 計(jì)算板材的整體偏移及旋轉(zhuǎn)角度

  由于本案檢測(cè)精度要求較高,MARK點(diǎn)的設(shè)置也變的尤為重要,經(jīng)過多方討論,最終確定MARK采用如下方案:

  圖4 精確確定MARK位置的方案示意

  由于拍攝距離客戶要求330mm的物距,以及考慮到檢測(cè)精度要求,所以采用2個(gè)增倍鏡頭以及接環(huán)。由此可獲得如下視野:

  圖5 拍攝視野

  本項(xiàng)目都采用80萬像素的相機(jī),分辨率為1024×768,可根據(jù)分布像素推算檢測(cè)精度:

  4mm/1024pixel= 0.004mm/pixel(一個(gè)像素值代表0.003mm);考慮到系統(tǒng)存在檢測(cè)誤差以及外部光源干擾與振動(dòng)干擾,可以計(jì)算,本系統(tǒng)檢測(cè)精度在0.012mm。

  使用“邊形匹配”工具,定位Mark點(diǎn)的位置:

  圖6 確定MARK位置界面界面圖

  使用“邊緣位置”工具,檢測(cè)Mark點(diǎn)的交叉點(diǎn)X,Y軸坐標(biāo)。

  圖7 確定MARK點(diǎn)坐標(biāo)界面顯示

  同時(shí),本DMV系統(tǒng)支持以太網(wǎng)通訊功能,可將檢測(cè)到的坐標(biāo)偏移量,通過以太網(wǎng)通訊的方式送到上位機(jī),并進(jìn)行處理。本案中客戶采用的上位機(jī)是工業(yè)電腦。

  圖8 數(shù)據(jù)輸出界面顯示

  圖9 雙相機(jī)架設(shè)

  2 系統(tǒng)配置

  系統(tǒng)配置如表1所示。

  表1 系統(tǒng)配置

  3 結(jié)束語

  在本切割系統(tǒng)中,視覺定位為其精度的切割提供了最前端的檢測(cè)數(shù)據(jù)。為其最終獲得滿足要求的切割精度提供了保證。視覺檢測(cè)為許多先前無法檢測(cè)或者難以檢測(cè)的數(shù)據(jù)提供了一種全新的解決方案。

  作者簡(jiǎn)介:

  宗偉,出生于1981 年 06 月,畢業(yè)于上海電機(jī)學(xué)院機(jī)械系機(jī)械設(shè)備及自動(dòng)化專業(yè),現(xiàn)就職于中達(dá)電通股份有限公司儀表產(chǎn)品開發(fā)處,主要專注于臺(tái)達(dá)儀表的技術(shù)支持以及市場(chǎng)開發(fā)。

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